真空离子清洗机，医疗器械等离子真空清洗机，金属氧化层清洗机
(1.2)真空离子清洗机，医疗器械等离子真空清洗机，金属氧化层清洗机原理
等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成，分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。
(A)控制单元：
控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。
而控制单元又分为两个大的部分：1)电源部分：主要电源频率有三种，分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要电源匹配器的，而2.45GHz又称为微波等离子。2)系统控制单元：分三种，按钮控制(半自动、全自动)、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。
(B)真空腔体：
真空腔体主要是分为两种材质的：1)不锈钢真空腔体，2)石英腔体，3)铝合金腔体。
(C)真空泵：
真空泵种类较多，其选择会根据用户的真空度要求、体积要求来配置。
广泛应用于：
等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。
产品特点：
1.环保技术：等离子体作用过程是气- 固相干式反应 ,不消耗水资源、无需添加化学药剂,对环境无污染。
2.广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料都能很好地处理；
3.温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。
4.功能强：仅涉及高分子材料浅表面(10-1000A)，可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能；
5.低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行，往往几瓶气体就可以代替数千公斤清洗液,因此清洗成本会大大低于湿法清洗。
6.全过程可控工艺：所有参数可由PLC设置和数据记录，进行质量控制。
7.处理物几何形状无限制：大或小，简单或复杂，部件或纺织品，均可处理。
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